計測ﾂｰﾙのｷｬﾘﾌﾞﾚｰｼｮﾝに使用する基板を形成する方法､ｷｬﾘﾌﾞﾚｰｼｮﾝ基板および計測ﾂｰﾙをｷｬﾘﾌﾞﾚｰｼｮﾝする方法
【要約】
【課題】計測ツール内で方向に依存するオフセットをより簡単に補償することが可能な技術を提供する。
【解決手段】計測ツール内の方向に依存する変動を補償するために、計測ツールの較正に使用する基板を形成する方法。基板形成方法は放射感応性材料の層を基板表面に設け、第一セットのパターンフィーチャ及び第二セットのパターンフィーチャを含むキャリブレーションパターンをもつパターンニングデバイス（リソグラフィ装置）により露光する。
【公開番号】
特開２００９−２９３１（Ｐ２００９−２９３１Ａ）
【公開日】
平成２１年１月８日（２００９．１．８）
【発明者】
【氏名】クラメル，フーゴ，アウグスティヌス，ヨセフ
【氏名】キールス，アントイネ，ガストン，マリー
【氏名】ヤンセン，ヘラルドゥス，マリア，ヨハネス，ウィナンド
【出願番号】
特願２００８−７７４９３（Ｐ２００８−７７４９３）
【出願日】
平成２０年３月２５日（２００８．３．２５）
【出願人】
【識別番号】５０４１５１８０４
【氏名又は名称】エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ．
【代理人】
【識別番号】１０００７９１０８
【弁理士】
【氏名又は名称】稲葉 良幸
【識別番号】１０００９３８６１
【弁理士】
【氏名又は名称】大賀 眞司
【識別番号】１００１０９３４６
【弁理士】
【氏名又は名称】大貫 敏史
【特許請求の範囲】
【発明の詳細な説明】
IPC：G01B（2009年）
