結晶化金属酸化物薄膜の製造方法及びその用途
【要約】
【課題】ガラスやシリコン基板上に結晶化したＹ２Ｏ３を含む薄膜形成を可能にし、性能が高い蛍光体薄膜材料の製造方法を提供する。
【解決手段】
基板上に形成されたY、Dy, Sm, Gd, Ho, Eu, Tm, Tb, Er, Ce Pr, Yb, La, Nd, Luからなる群れより選ばれる少なくとも一種類の希土類金属元素を含む有機金属薄膜または金属酸化物膜を、250〜600℃の温度に保持し、波長200nm以下の紫外光を照射しつつ、結晶化を行うことを特徴とする結晶化金属酸化物薄膜の製造方法。
【公開番号】
特開２００８−４４８０３（Ｐ２００８−４４８０３Ａ）
【公開日】
平成２０年２月２８日（２００８．２．２８）
【発明者】
【氏名】土屋 哲男
【氏名】中島 智彦
【氏名】渡邊 昭雄
【氏名】熊谷 俊弥
【出願番号】
特願２００６−２１９８３４（Ｐ２００６−２１９８３４）
【出願日】
平成１８年８月１１日（２００６．８．１１）
【出願人】
【識別番号】３０１０２１５３３
【氏名又は名称】独立行政法人産業技術総合研究所
【特許請求の範囲】
【発明の詳細な説明】
IPC：C01F（2008年）
